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  • 半導體 刻蝕工藝(ETCH)
    半導體 刻蝕工藝(ETCH)

    刻蝕工藝(ETCH):通過MFC..控制真空狀態下的反應氣體,對半導體材料進行等離子刻蝕,得到所需要的精密微觀幾何結構。

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  • 半導體行業 化學氣相沉積(CVD)
    半導體行業 化學氣相沉積(CVD)

    化學氣相沉積(CVD):利用高精度的質量流量控制[ 以下簡稱MFC]質量流量計[以下簡稱MFM]有利于..控制輸出氣體,確保近乎**的晶圓鍍膜品質。

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  • 光伏行業 單晶爐氬氣控制
    光伏行業 單晶爐氬氣控制

    單晶爐氬氣控制:使用MFC用來測控并控制高純度氬氣輸入的流量,提高單晶爐內的真空度和溫度場的控制精度,從而得到均勻、排列**的單晶硅。

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  • 光伏行業 等離子體增強化學氣象沉積
    光伏行業 等離子體增強化學氣象沉積

    等離子體增強化學氣象沉積(PECVD):作為制備高效晶體硅太陽能電池的重要步驟,使用高精度、快速響應的MFC是制備**薄膜的必要條件。

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  • 生物科技
    生物科技

    生物發酵:通過MFC..控制輸入氣體的流量,配備溫度計、濃度計等,從而生成穩定、**可重復的發酵環境。

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  • 小微流量計量的校準
    小微流量計量的校準

    在實際校準中,通常采用將被測設備與高精度MFC或MFM串聯,測量相同氣體流量,比較兩臺設備的度數。

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  • 真空鍍膜行業
    真空鍍膜行業

    反應濺射鍍膜: 通過MFC..、穩定控制氬氣的流量,使處于等離子高效轟擊靶材表面,確?;w表面沉積形成均勻的膜層。

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